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レジスト材料 高分子先端材料ｏｎｅ　ｐｏｉｎｔ 貸出可

伊藤洋／著 -- 共立出版 -- 2005.2

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所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
一般資料 578.4 /ｲﾄ/ 00109186452 図書 貸出可 利用可 iLisvirtual

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マーク種別 JPマーク
マーク番号 20743188
書名 レジスト材料
書名ヨミ ﾚｼﾞｽﾄ ｻﾞｲﾘｮｳ
著者名 伊藤洋 ／著  
著者名ヨミ ｲﾄｳ ﾋﾛｼ  
出版地 東京
出版者 共立出版
出版年 2005.2
頁数・図版 １０４ｐ
大きさ １９ｃｍ
叢書名・叢書番号 高分子先端材料ｏｎｅ　ｐｏｉｎｔ・１０
一般注記 シリーズの編者：高分子学会　索引あり
ISBN 4-320-04372-3 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
本体価格 １４００円
NDC分類(8版) 578.4
NDC分類(9版) 549.7
件名 リソグラフィー
内容紹介 半導体デバイス製作に使われるレジスト材料の歴史的発展、その化学とプロセスを概観。過去１０年のみでなく、この先何年間も、化学増幅レジストが独占的に主役を果たすため、この型のレジストに大きく紙面を割いた。
著者紹介 １９７６年東京大学工学系研究科博士課程修了。７６～８０年ニューヨーク州立大学シラキュース校化学科博士研究員、研究員。８０年～現在、ＩＢＭアルマデン研究所Ｒｅｓｅａｒｃｈ　Ｓｔａｆｆ　Ｍｅｍｂｅｒ。主として、感光性高分子、レジストの開発研究、高分子合成に従事。

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※内容紹介、著者紹介は（株）日販図書館サービスおよび
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