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薄膜の機械的物性と不良対策・高品質化貸出可

-- サイエンス＆テクノロジー -- 2008.7

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所蔵場所	請求記号	資料コード	資料区分	帯出区分	状態
一般資料	549.8 /ｻｲ/	00110261964	図書	貸出可	利用可

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資料詳細

マーク種別	JPマーク
マーク番号	21463281
書名	薄膜の機械的物性と不良対策・高品質化
書名ヨミ	ﾊｸﾏｸﾉｷｶｲﾃｷﾌﾞｯｾｲﾄﾌﾘｮｳﾀｲｻｸｺｳﾋﾝｼﾂｶ
出版地	東京
出版者	サイエンス＆テクノロジー
出版年	2008.7
頁数・図版	３２８ｐ
大きさ	２７ｃｍ
一般注記	文献あり
ISBN	4-903413-42-X
ISBN(新)	978-4-903413-42-6
本体価格	５５０００円
NDC分類(9版)	549.8
件名	薄膜
内容細目	内容：内部応力　市村博司　著．　薄膜材料の硬さ　市村博司　著．　薄膜の密着力　市村博司　著,薄膜の不良事例と対策　成膜条件最適化　高品質膜の作製：大きな変形に対してｒｏｂｕｓｔな薄膜の形成　岩村栄治　著．　内部応力についての基礎的研究と内部応力の低減による製品の耐久性向上事例　鈴木すすむ　著．　ＴｉＮ，ＴｉＡＩＮ薄膜のＸ線残留応力測定　英崇夫　著．　スパッタ法による薄膜作製において生じる諸問題と対策　星陽一　著．　大面積ガラス基板への光学的機能薄膜の形成　高松敦　著．　光学薄膜の不良事例と対策　成膜条件最適化　高品質膜の作製　唐健　著．　光学薄膜の不良事例　室谷裕志　著．　ゾルーゲル成膜過程でセラミックコーティング膜に発生する応力と亀裂について　幸塚広光　著．　ＤＬＣの高機能化膜ＩＣＦ　平塚傑工　著．　ＰＬＤ法による透明導電膜の作製　鈴木晶雄　著．　酸化亜鉛薄膜のミスト気相成膜技術における高品質化　藤田静雄　著．　シード層を用いた高品質アナターゼ型ＴｉＯ２透明導電膜の作製　一杉太郎　著．　薄膜蛍光体　中西洋一郎　著．　フォトレジスト薄膜の特性と不良対策　河合晃　著．　複合材料膜の合成時における組成均一性のための実施例（ＰＺＴ強誘電体薄膜）　富永浩二　著,ＭＥＭＳ薄膜用引張試験法の開発と標準化　小川博文　著．　金属へのゾルーゲルコーティングと腐食防止対策　森和彦　著．　カーボンナノチューブ薄膜　佐野正人　著．　高水素透過率，高水素選択性を有するガス分離膜の作製　永野孝幸　著

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