電気学会・プラズマイオン高度利用プロセス調査専門委員会/編 -- オーム社 -- 2005.10

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所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
書庫一般 427.6 /テン/ 00109447621 図書 貸出可 利用可 iLisvirtual

資料詳細

マーク種別 JPマーク
マーク番号 20906920
書名 プラズマイオンプロセスとその応用
書名ヨミ プラズマ イオン プロセスト ソノ オウヨウ
著者名 電気学会・プラズマイオン高度利用プロセス調査専門委員会 /編  
著者名ヨミ デンキガッカイ  
出版地 東京
出版者 オーム社
出版年 2005.10
頁数・図版 279p
大きさ 22cm
一般注記 文献あり 索引あり
ISBN 4-274-20123-6 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
本体価格 4900円
NDC分類(8版) 427.6
NDC分類(9版) 549.1
件名 イオンビーム
内容紹介 プラズマイオンプロセス法は、半導体への応用技術においてその重要度を増してきている。プラズマ技術、イオン運動の物理、プロセスに求められる条件から、機能性薄膜の生成や半導体への応用技術まで幅広く解説。

※内容紹介、著者紹介は(株)日販図書館サービスおよび
(株)トーハンのデータです。